镓化合物

铟泰提供的镓化合物包括三氯化镓(GaCl₃)和氧化镓(Ga₂O₃)。

镓是制造化合物半导体器件的重要材料。在形成GaN外延层时，一般使用化学蒸镀(CVD)技术。而CVD镓前体（三甲基镓）一般是用高纯度的三氯化镓做成的。

氧化镓在由铟、镓和锌的氧化物组成的溅射靶材中必不可少。IGZO（铟镓锌氧化物）或GIZO溅射靶材被用于新一代显示器，由于这种显示器的电流大、像素密度高，要求使用性能更好的材料。GIZO材料适用于在显示器有源矩阵底板上沉积适配薄膜晶体管的高迁移率的有源通道。