氧化锡铟（ITO或者掺锡的氧化铟）是氧化铟(III) (In2O3)和氧化锡(IV) (SnO2)的混合物，按重量算，一般是90%的氧化铟In2O3和10%的氧化锡SnO2。
粉末状的氧化锡铟（ITO）为黄绿色，但当它被沉积成厚度为1000 – 3000埃的薄膜时是透明的。当它沉积为玻璃或透明塑料上的薄膜时，其功用就是透明导电体。
氧化锡铟（ITO）一般通过物理气相沉积工艺进行沉积，如直流磁控溅射或电子束沉积。另外的做法是将氧化锡铟（ITO）用恰当的成膜高分子树脂和溶剂系统融入墨水，用丝网印刷来沉积——这样做的透明度和导电率比物理沉积工艺低。
在透明导电氧化物（TCO）中，氧化锡铟（ITO）是公认的最佳TCO。它具有非常优异的导电性、透明度和稳定性，并且容易形成图案从而用于制作透明电路。氧化锡铟（ITO）被用于多种显示技术，例如LCD、OLED、等离子体、电致发光和电致变色显示器，以及大量的触摸屏技术。
这种多用途的材料功用不仅限于此，它还被应用于抗静电铟锡氧化物涂料、电磁（EMI）屏蔽、光伏太阳能电池、飞机挡风玻璃、冷冻箱玻璃除雾等技术中。氧化锡铟（ITO）的应用还包括红外反射涂层，可以用在诸如低辐射玻璃和低压钠灯中反射热能。
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